HMDS真空烤箱的工作性能及優(yōu)點(diǎn)
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝尤為重要。
起初,人們用液態(tài)的HMDS直接涂到晶片上,然后借著晶片的高速旋轉(zhuǎn)在晶片表面形成一層HMDS膜。這樣就階段性的解決了基片和光刻膠之間的結(jié)合問(wèn)題,但隨著光刻線條的越來(lái)越細(xì),膠的越來(lái)越薄,對(duì)粘附力提出了更高的要求,于是HMDS真空烤箱被研制出現(xiàn)。
技術(shù)指標(biāo):
1.機(jī)外殼采用冷扎鋼板噴塑處理,內(nèi)膽為不銹鋼316L材料制成;加熱器均勻分布在內(nèi)膽外壁四周,內(nèi)膽內(nèi)無(wú)任何電氣配件及易燃易爆裝置。雙層玻璃門(mén)觀察工作室內(nèi)物體一目了然。
2.箱門(mén)閉合松緊能調(diào)節(jié),整體成型的硅橡膠門(mén)封圈,確保箱內(nèi)高真空度。
3.微電腦智能控溫儀,具有設(shè)定,測(cè)定溫度雙數(shù)字顯示和PID自整定功能,控溫準(zhǔn)確,可靠。
4.智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套PLC模塊可供用戶根據(jù)不同制程條件改變程序,溫度,真空度及每一程序時(shí)間。
5.HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設(shè)計(jì),真空箱密封性能佳,確保HMDS氣體無(wú)外漏顧慮。整個(gè)系統(tǒng)采用優(yōu)質(zhì)材料制造,無(wú)發(fā)塵材料,適用100級(jí)光刻間凈化環(huán)境。
6.HMDS管路加熱功能,使HMDS液體進(jìn)入箱體的前端管路加熱,使轉(zhuǎn)為HMDS氣態(tài)時(shí)更易。
7.低液報(bào)警裝置,采用紅外液體感測(cè)器,能及時(shí)靈敏給出指令(當(dāng)HMDS液過(guò)低時(shí)發(fā)出報(bào)警及及時(shí)切斷工作起動(dòng)功能)
8.溫度與PLC聯(lián)動(dòng)保護(hù)功能(當(dāng)PLC沒(méi)有啟動(dòng)程序時(shí),加溫功能啟動(dòng)不了,相反加溫功能啟動(dòng)時(shí),PLC程序不按正常走時(shí)也及時(shí)切斷工作功能,發(fā)出警報(bào))
9.整個(gè)箱體及HMDS氣體管路采用SUS316不銹鋼材料,整體使用無(wú)縫焊接(避免拼接導(dǎo)致HMDS液體腐蝕外泄對(duì)人體的傷害)
旭騰科技HMDS真空烤箱的優(yōu)點(diǎn):
1.預(yù)處理性能好,由于是在經(jīng)過(guò)數(shù)次的氮?dú)庵脫Q再進(jìn)行的HMDS處理,所以沒(méi)有塵埃的干擾,再者,由于該系統(tǒng)是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝,同一個(gè)容器中進(jìn)行,晶片在容器里先經(jīng)過(guò)100℃-200℃的去水烘烤,再接著進(jìn)行HMDS處理,不需要從容器里傳出,而接觸到大氣,晶片吸收水分子的機(jī)會(huì)降低,所以有著較好的處理效果。
2.處理更加均勻。由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以比液態(tài)涂布更均勻。
3.效率高。液態(tài)涂布是單片操作,而本系統(tǒng)一次可以處理多達(dá)4盒的晶片。
4.更加節(jié)省藥液。實(shí)踐證明,用液態(tài)HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統(tǒng)處理4盒晶片所用藥液還多;
5.更加環(huán)保和安全,HMDS是有毒化學(xué)藥品,人吸入后會(huì)出現(xiàn)反胃、嘔吐、刺激胸部、呼吸道等,由于整個(gè)過(guò)程是在密閉的環(huán)境下完成的,所以不會(huì)有人接觸到藥液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾氣是直接由機(jī)械泵抽到尾氣處理機(jī),所以也不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染。
*文章僅為個(gè)人觀點(diǎn),不作為技術(shù)參考。具體細(xì)節(jié)請(qǐng)咨詢技術(shù)人員。
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