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HMDS真空烤箱的技術指標及優點
在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝尤為重要。
2019-06-03 10:02:56安徽旭騰微電子設備有限公司1243
HMDS真空烤箱的技術指標及優點
? ? 在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝尤為重要。?
? ? 起初，人們用液態的HMDS直接涂到晶片上，然后借著晶片的高速旋轉在晶片表面形成一層HMDS膜。這樣就階段性的解決了基片和光刻膠之間的結合問題，但隨著光刻線條的越來越細，膠的越來越薄，對粘附力提出了更高的要求，于是HMDS真空烤箱被研制出現。
1.機外殼采用冷扎鋼板噴塑處理，內膽為不銹鋼316L材料制成；加熱器均勻分布在內膽外壁四周，內膽內無任何電氣配件及易燃易爆裝置。雙層玻璃門觀察工作室內物體一目了然。
2.箱門閉合松緊能調節，整體成型的硅橡膠門封圈，確保箱內高真空度。
3.微電腦智能控溫儀，具有設定，測定溫度雙數字顯示和PID自整定功能，控溫準確，可靠。
4.智能化觸摸屏控制系統配套PLC模塊可供用戶根據不同制程條件改變程序，溫度，真空度及每一程序時間。
5.HMDS氣體密閉式自動吸取添加設計，真空箱密封性能佳，確保HMDS氣體無外漏顧慮。整個系統采用優質材料制造，無發塵材料，適用100級光刻間凈化環境。
6.HMDS管路加熱功能，使HMDS液體進入箱體的前端管路加熱，使轉為HMDS氣態時更易。
7.低液報警裝置，采用紅外液體感測器，能及時靈敏給出指令（當HMDS液過低時發出報警及及時切斷工作起動功能）
8.溫度與PLC聯動保護功能（當PLC沒有啟動程序時，加溫功能啟動不了，相反加溫功能啟動時，PLC程序不按正常走時也及時切斷工作功能，發出警報）
9.整個箱體及HMDS氣體管路采用SUS316不銹鋼材料，整體使用無縫焊接（避免拼接導致HMDS液體腐蝕外泄對人體的傷害）
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? ? ?1.預處理性能好，由于是在經過數次的氮氣置換再進行的HMDS處理，所以沒有塵埃的干擾，再者，由于該系統是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝，同一個容器中進行，晶片在容器里先經過100℃-200℃的去水烘烤，再接著進行HMDS處理，不需要從容器里傳出，而接觸到大氣，晶片吸收水分子的機會降低，所以有著較好的處理效果。
? ? ?2.處理更加均勻。由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以比液態涂布更均勻。?
? ? ?3.效率高。液態涂布是單片操作，而本系統一次可以處理多達4盒的晶片。
? ? ?4.更加節省藥液。實踐證明，用液態HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統處理4盒晶片所用藥液還多；? ?
? ? ?5.更加環保和安全，HMDS是有毒化學藥品，人吸入后會出現反胃、嘔吐、刺激胸部、呼吸道等，由于整個過程是在密閉的環境下完成的，所以不會有人接觸到藥液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾氣是直接由機械泵抽到尾氣處理機，所以也不會對環境造成污染。
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*文章僅為個人觀點，不作為技術參考。具體細節請咨詢技術人員。
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