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HMDS涂膠烤箱的工作流程
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也尤為重要。
2019-03-18 10:35:35安徽旭騰微電子設(shè)備有限公司1740
HMDS涂膠烤箱的工作流程
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也尤為重要。
HMDS涂膠系統(tǒng)通過對烘箱內(nèi)HMDS預(yù)處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
2.1首先設(shè)定烤箱工作溫度
2.2打開真空泵抽真空，待腔內(nèi)真空度達(dá)到某一真空度后
2.3開始充入氮氣，充到達(dá)到某一低真空度后
2.4再次進(jìn)行抽真空、充入氮氣的過程，到達(dá)設(shè)定的充入氮氣次數(shù)后
2.5開始保持一段時間，使硅片充分受熱，減少硅片表面的水分
2.6然后再次開始抽真空
2.7加熱HMDS管道
2.8充入HMDS氣體到達(dá)設(shè)定時間后，停止充入HMDS藥液
2.9三面加熱箱體使溫度達(dá)到150度左右
2.10進(jìn)入保持階段，使硅片充分與HMDS反應(yīng)
2.11當(dāng)達(dá)到設(shè)定的保持時間后，再次開始抽真空
2.12充入氮氣，完成整個作業(yè)過程
旭騰科技作為專業(yè)的晶圓HMDS涂布設(shè)備制造廠商，可根據(jù)客戶需求定制您需要的滿意產(chǎn)品，有需求的客戶詳情請咨詢400-608-2908或搜索旭騰科技了解更多相關(guān)信息。
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