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HMDS預處理系統功能實現原理簡介
在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也尤為重要。
2018-12-19 11:00:25安徽旭騰微電子設備有限公司3441
HMDS預處理系統功能實現原理簡介
在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也尤為重要。
一、旭騰科技HMDS預處理系統的原理
旭騰科技HMDS預處理系統通過對烘箱內HMDS預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
2.1首先設定烘箱工作溫度
2.2打開真空泵抽真空，待腔內真空度達到某一真空度后
2.3開始充入氮氣，充到達到某一低真空度后
2.4再次進行抽真空、充入氮氣的過程，到達設定的充入氮氣次數后
2.6然后再次開始抽真空
2.7加熱HMDS管道
2.8充入HMDS氣體到達設定時間后，停止充入HMDS藥液
2.9三面加熱箱體使溫度達到150度左右
2.10進入保持階段，使硅片充分與HMDS反應
2.11當達到設定的保持時間后，再次開始抽真空
2.12充入氮氣，完成整個作業過程。
*文章僅為個人觀點,具體技術細節請咨詢專業技術人員。
旭騰科技作為專業的晶圓HMDS涂布設備制造廠商，可根據客戶需求定制您需要的滿意產品，有需求的客戶詳情請咨詢400-608-2908或搜索旭騰科技了解更多相關信息。
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