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HMDS涂布烤箱有哪些優(yōu)勢(shì)？
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也尤為重要。
2018-11-23 09:57:21安徽旭騰微電子設(shè)備有限公司1471
HMDS涂布烤箱有哪些優(yōu)勢(shì)？
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。 
一開始，人們用液態(tài)的HMDS直接涂到晶片上，然后借著晶片的高速旋轉(zhuǎn)在晶片表面形成一層HMDS膜。這樣就階段性的解決了基片和光刻膠之間的結(jié)合問題，但隨著光刻線條的越來(lái)越細(xì)，膠的越來(lái)越薄，對(duì)粘附力提出了更高的要求，于是我們研制出了現(xiàn)在的HMDS專用涂布烘箱。下面為您介紹旭騰科技HMDS涂布烤箱的預(yù)處理系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)。
1.預(yù)處理性能更好。由于是在經(jīng)過數(shù)次的氮?dú)庵脫Q再進(jìn)行的HMDS處理，所以不會(huì)有塵埃的干擾，再者，由于該系統(tǒng)是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝，同一個(gè)容器中進(jìn)行，晶片在容器里先經(jīng)過100℃-200℃的去水烘烤，再接著進(jìn)行HMDS處理，不需要從容器里傳出，而接觸到大氣，晶片吸收水分子的機(jī)會(huì)降低，所以有著更好的處理效果。
2.處理更加均勻。由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液態(tài)涂布不可比擬的均勻性。
3.效率高。液態(tài)涂布是單片操作，而本系統(tǒng)一次可以處理4盒的晶片。
4.更加節(jié)省藥液。實(shí)踐證明，用液態(tài)HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統(tǒng)處理4盒晶片所用藥液還多；
5.更加環(huán)保和安全，HMDS是有毒化學(xué)藥品，人吸入后會(huì)出現(xiàn)反胃、嘔吐、刺激胸部、呼吸道等，由于整個(gè)過程是在密閉的環(huán)境下完成的，所以不會(huì)有人接觸到藥液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾氣是直接由機(jī)械泵抽到尾氣處理機(jī)，所以也不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染。
*文章僅為個(gè)人觀點(diǎn)，不作為技術(shù)參考。
旭騰科技作為專業(yè)的HMDS涂布設(shè)備制造廠商，可根據(jù)客戶需求定制您需要的滿意產(chǎn)品，有需求的客戶詳情請(qǐng)咨詢400-608-2908或搜索旭騰科技了解更多。
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